Laser 355 nm/laser 355 nm 1 W/laser UV 355 nm/laser biologico sperimentale/laser GaN 355 nm 1 W
Introduzione generale: il laser UV Raytek da 355 nm presenta i vantaggi di lunghezza d'onda corta, impulso breve, eccell;
Informazioni di base
Modello numero: | RAY-OI139# |
Potenza di uscita | 10 MW, 30 MW, 50 MW, 100 MW, 200 MW, 300 MW, 500 MW, 600 MW, 800 MW |
Modalità di lavoro | Cw o modulazione |
Divergenza del raggio (angolo completo) | 0,5-2,0 Malattie |
Accoppiamento della fibra accettabile | >=25um Na0,22 |
Dimensioni dell'accoppiamento della fibra | 200um, 400um, 800um, 1000um o personalizzati come richiesto |
Modulazione | 0-30kHz Analogico o Ttl |
Pacchetto di trasporto | 1 pezzo per scatola |
specifica | individualmente come richiesto |
marchio | Raytek |
Origine | Cina |
Codice HS | 9013200099 |
Capacità produttiva | 1000 pezzi all'anno |
Descrizione del prodotto
Introduzione generale: il laser UV Raytek da 355 nm presenta i vantaggi di lunghezza d'onda corta, impulso breve, eccellente qualità del raggio, alta precisione e potenza di picco elevata. Pertanto, il sistema laser Raytek presenta eccellenti caratteristiche applicative nel campo della lavorazione di materiali speciali, che possono ridurre significativamente l'effetto termico sulla superficie di vari materiali e migliorare notevolmente la precisione della lavorazione. Il laser UV Raytek da 355 nm viene utilizzato principalmente per la marcatura e il trattamento superficiale di wafer di silicio, chip ceramici, grani IC, vetri vari, TFT, LCD, display al plasma, marcatura di tasti fini, marcatura di superfici di vetro, marcatura di chip di silicio, lavorazione di circuiti stampati, schermo piatto produzione di display, messa a punto di componenti elettronici, lavorazione di materiali per celle solari, tessuti, pellicole polimeriche e altri materiali. Rispetto alla luce verde e alla luce infrarossa, il laser ultravioletto di Raytek ha un effetto termico inferiore. Quando la lunghezza d'onda del laser si accorcia, tutti i tipi di materiali hanno un assorbimento maggiore e modificano anche direttamente la struttura della catena molecolare. I laser ultravioletti presentano vantaggi più evidenti nella lavorazione ultrafine a livello micro e nano di materiali sensibili agli effetti termici. Raytek utilizza un design a cavità laser sigillata per prevenire polvere e condensa, evitando completamente due ragioni principali per danneggiare costose apparecchiature ottiche e garantendo una produzione di massa stabile per gli utenti in ambienti industriali. Il design innovativo di Raytek garantisce un utilizzo a lungo termine del cristallo di conversione. Il piccolo angolo di divergenza del raggio garantisce che la radiazione UV abbia un'efficienza di conversione più elevata. La stabilità della potenza del laser Raytek è entro il 2%, il che può garantire un funzionamento continuo e stabile 24 ore al giorno. Il suo consumo energetico è solitamente inferiore a 1000 watt, il che significa un notevole risparmio energetico. Sono forniti un semplice schema di connessione elettrica, plug and play e una funzione affidabile di protezione da interruzione di corrente. Nome prodotto: Laser 355 nm/Laser 355 nm 1 W/Laser UV 355 nm/Laser UV 355 nm 1 W/Laser biologico sperimentale/Laser GaN 355 nm 1 w Alias: laser 355 nm, laser 355 nm 1 W, laser UV 355 nm, laser UV 355 nm 1 W, laser sperimentale biologico, laser GaN 355 nm 1 W. Laser GaN 355 nm, Laser GaN, Laser 355 nm-1 W, Laser 355 nm 200 mW, Laser 355 nm 300 mw, Laser 355 nm 500 mw, Laser 355 nm 600 mw, Laser 355 nm 800 mw, Laser 355 nm 3 W, Laser 355 nm 10 mw, Laser 355 nm 30 mW laser, laser da 355 nm 50 mW ecc. Principale caratteri: 1). Presenta i vantaggi di lunghezza d'onda corta, impulso breve, eccellente qualità del raggio, alta precisione e prestazioni di picco elevate; 2). Ha eccellenti proprietà applicative nel campo della lavorazione di materiali speciali; 3). L'effetto termico può essere significativamente ridotto sulla superficie di vari materiali e la precisione dell'applicazione è notevolmente migliorata; 4). materiali sensibili agli effetti termici; 5). Ampiamente usato nel laser a semiconduttore UV-CW, nel rilevamento della fluorescenza, negli esperimenti biologici, nell'eccitazione di GaN per esperimenti, ecc. Principali dati tecnici:=25um NA0,22/td> |
<3 %–5 % pro 4 Stunden |
<10A |
<60 Sekunden |
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